A Mitsubishi Electric Corporation anunciou sua participação acionária na Novel Crystal Technology, Inc., uma empresa japonesa que desenvolve e vende wafers de óxido de gálio, promissor material para uso em semicondutores de alta potência com maior eficiência energética.

Como a nova tecnologia tem o potencial de impulsionar a descarbonização global, a Mitsubishi Electric irá desenvolver esses semicondutores de quarta geração em ritmo acelerado.

A Novel Crystal Technology, fundada em 2015, é uma das primeiras empresas do mundo a desenvolver, fabricar e vender wafers de óxido de gálio para semicondutores de potência. Atualmente, como uma das principais produtoras desses produtos, possui tecnologia de fabricação que a Mitsubishi Electric usará em sua produção de semicondutores de potência de óxido de gálio.
A Mitsubishi Electric tem contribuído para a economia de energia em produtos eletrônicos de potência, produzindo semicondutores feitos de silício e carboneto de silício (SiC).

Recentes avanços foram alcançados com wafers de SiC e nitreto de gálio, mas espera-se que os produzidos com óxido de gálio ajudem a atingir tensões de ruptura ainda mais altas e menor dissipação de energia.

“A Mitsubishi Electric espera acelerar seu desenvolvimento de semicondutores de óxido de gálio com maior eficiência energética, combinando sua própria experiência no projeto e fabricação de semicondutores de alta confiabilidade e baixa perda de energia com a experiência da Novel Crystal Technology na produção de wafers de óxido de gálio”, afirma a empresa.